Ürünler

  • Oksijen (O2)

    Oksijen (O2)

    Oksijen renksiz ve kokusuz bir gazdır. Oksijenin en yaygın elementel formudur. Teknoloji açısından oksijen, hava sıvılaştırma işlemiyle elde edilir ve havadaki oksijenin yaklaşık %21'ini oluşturur. Oksijen, kimyasal formülü O2 olan renksiz ve kokusuz bir gazdır ve oksijenin en yaygın elementel formudur. Erime noktası -218,4°C, kaynama noktası ise -183°C'dir. Suda kolayca çözünmez. 1 litre suda yaklaşık 30 mL oksijen çözünür ve sıvı oksijen gök mavisi rengindedir.
  • Kükürt Dioksit (SO2)

    Kükürt Dioksit (SO2)

    Kükürt dioksit (SO2), kimyasal formülüyle bilinen en yaygın, en basit ve tahriş edici kükürt oksittir. Kükürt dioksit, keskin bir kokuya sahip renksiz ve şeffaf bir gazdır. Su, etanol ve eterde çözünebilen sıvı kükürt dioksit, nispeten kararlı, inaktif, yanıcı olmayan ve havayla patlayıcı karışım oluşturmayan bir maddedir. Kükürt dioksit ağartma özelliğine sahiptir. Kükürt dioksit, endüstride genellikle kağıt hamuru, yün, ipek, hasır şapka vb. ağartmak için kullanılır. Kükürt dioksit ayrıca küf ve bakteri oluşumunu da engelleyebilir.
  • Etilen Oksit (ETO)

    Etilen Oksit (ETO)

    Etilen oksit, en basit siklik eterlerden biridir. Heterosiklik bir bileşiktir. Kimyasal formülü C2H4O'dur. Zehirli bir kanserojen ve önemli bir petrokimya ürünüdür. Etilen oksidin kimyasal özellikleri oldukça aktiftir. Birçok bileşikle halka açma ilave reaksiyonlarına girebilir ve gümüş nitratı indirgeyebilir.
  • 1,3 Bütadien (C4H6)

    1,3 Bütadien (C4H6)

    1,3-Bütadien, kimyasal formülü C4H6 olan organik bir bileşiktir. Hafif aromatik bir kokuya sahip renksiz bir gazdır ve kolayca sıvılaştırılabilir. Etilene göre daha az toksiktir ve toksisitesi ona benzer, ancak cilt ve mukoza zarlarında güçlü tahrişe neden olur ve yüksek konsantrasyonlarda anestezik etki gösterir.
  • Hidrojen (H2)

    Hidrojen (H2)

    Hidrojenin kimyasal formülü H2 ve molekül ağırlığı 2,01588'dir. Normal sıcaklık ve basınç altında, son derece yanıcı, renksiz, şeffaf, kokusuz ve tatsız bir gazdır; suda çözünmesi zordur ve çoğu maddeyle reaksiyona girmez.
  • Neon (Ne)

    Neon (Ne)

    Neon, kimyasal formülü Ne olan renksiz, kokusuz, yanıcı olmayan nadir bir gazdır. Genellikle neon, dış mekan reklam panoları için renkli neon ışıklarının dolgu gazı olarak kullanılır ve ayrıca görsel ışık göstergeleri, voltaj regülasyonu ve lazer gaz karışımı bileşenlerinde de kullanılabilir. Neon, Kripton ve Ksenon gibi soylu gazlar, cam ürünlerin performansını veya işlevini iyileştirmek için de dolgu maddesi olarak kullanılabilir.
  • Karbon Tetraflorür (CF4)

    Karbon Tetraflorür (CF4)

    Tetraflorometan olarak da bilinen karbon tetraflorür, normal sıcaklık ve basınçta renksiz, suda çözünmeyen bir gazdır. CF4 gazı, mikroelektronik endüstrisinde şu anda en yaygın kullanılan plazma aşındırma gazıdır. Ayrıca lazer gazı, kriyojenik soğutucu, çözücü, yağlayıcı, yalıtım malzemesi ve kızılötesi dedektör tüpleri için soğutucu olarak da kullanılır.
  • Sülfüril Florür (F2O2S)

    Sülfüril Florür (F2O2S)

    Zehirli bir gaz olan sülfüril florür (SO2F2), esas olarak böcek ilacı olarak kullanılır. Sülfüril florürün güçlü difüzyon ve geçirgenlik, geniş spektrumlu böcek ilacı özelliği, düşük dozaj, düşük kalıntı miktarı, hızlı böcek öldürücü etki, kısa gaz dağılım süresi, düşük sıcaklıklarda kullanım kolaylığı, çimlenme oranını etkilememesi ve düşük toksisite gibi özelliklerinden dolayı, depolar, kargo gemileri, binalar, barajlar, termit önleme vb. alanlarda giderek daha yaygın olarak kullanılmaktadır.
  • Silan (SiH4)

    Silan (SiH4)

    Silan (SiH4), normal sıcaklık ve basınçta renksiz, zehirli ve çok aktif bir sıkıştırılmış gazdır. Silan, silikonun epitaksiyel büyümesinde, polisilikon, silikon oksit, silikon nitrür vb. hammaddelerinde, güneş pillerinde, optik fiberlerde, renkli cam üretiminde ve kimyasal buhar biriktirme yönteminde yaygın olarak kullanılmaktadır.
  • Oktaflorosiklobütan (C4F8)

    Oktaflorosiklobütan (C4F8)

    Oktaflorosiklobütan C4F8, gaz saflığı: %99,999, genellikle gıda aerosol itici gazı ve ortam gazı olarak kullanılır. Yarı iletken PECVD (Plazma Destekli Kimyasal Buhar Biriktirme) işleminde sıklıkla kullanılır; C4F8, CF4 veya C2F6'nın yerine temizleme gazı ve yarı iletken işlem aşındırma gazı olarak kullanılır.
  • Nitrik Oksit (NO)

    Nitrik Oksit (NO)

    Nitrik oksit gazı, kimyasal formülü NO olan bir azot bileşiğidir. Renksiz, kokusuz, zehirli bir gazdır ve suda çözünmez. Nitrik oksit kimyasal olarak çok reaktiftir ve oksijenle reaksiyona girerek aşındırıcı bir gaz olan azot dioksiti (NO₂) oluşturur.
  • Hidrojen Klorür (HCl)

    Hidrojen Klorür (HCl)

    Hidrojen klorür (HCl) gazı, keskin kokulu, renksiz bir gazdır. Sulu çözeltisine hidroklorik asit denir. Hidrojen klorür esas olarak boyalar, baharatlar, ilaçlar, çeşitli klorürler ve korozyon önleyicilerin yapımında kullanılır.